Unsere Wafer-Reinigungsanlage der dritten Generation überzeugt Kunden und ist nun vor Ort im Einsatz!
- david david
- 21. Aug.
- 1 Min. Lesezeit
Aktualisiert: 6. Sept.
Wir freuen uns bekanntzugeben, dass die Wafer-Reinigungsplattform der dritten Generation von QWmind Tech von unseren Kunden freigegeben wurde und nun in die Produktionsstätten geliefert wird. Aufbauend auf der zweiten Generation zur gezielten Lösung bestehender Pain Points, liefert die neue Anlage messbare Ergebnisse: Kunden berichteten von einer 30 % höheren Anlagenstabilität und einem 40 % höheren Durchsatz während der Abnahmetests.
Die Anlage wurde für eine nahtlose Integration in bestehende Prozessabläufe und Fabrikautomatisierung entwickelt. Sie kombiniert eine intelligentere Steuerungslogik, vereinfachten Wartungszugang und einen geringeren Chemikalienverbrauch. Zudem ist sie vollständig kompatibel mit den MES- und RTD-Systemen unserer Kunden.
Frühe Anwender loben insbesondere die verkürzten Qualifizierungszyklen und den reibungslosen Übergang von der Installation zur Pilotproduktion.
Warum das wichtig ist:
Höhere Verfügbarkeit = gesteigerte Produktivität.
Geringere Betriebsvariabilität = verbesserte Ausbeute.
Vollständiges Support-Paket für eine schnelle Qualifizierung vor Ort.
Sie möchten eine Demo oder Pilotphase?
Kontaktieren Sie unser regionales Vertriebsteam zur Terminvereinbarung: qiwu@qwmind.com
