Notre nettoyeur de wafers de troisième génération séduit les clients et arrive désormais sur site !
- david david
- 21 août
- 1 min de lecture
Nous avons le plaisir d’annoncer que la plateforme de nettoyage de wafers de troisième génération de QWmind Tech a été validée par nos clients et est en cours de déploiement sur les sites de production. Conçue à partir de la deuxième génération pour résoudre des points critiques, la nouvelle solution offre des résultats concrets : lors des essais d’acceptation, les clients ont signalé une amélioration de 30 % de la stabilité des équipements et une augmentation de 40 % du rendement.
Pensé pour s’intégrer facilement aux flux de procédés existants et à l’automatisation des usines, ce nettoyeur associe une logique de contrôle plus intelligente, un accès de maintenance simplifié et une consommation réduite de produits chimiques. Il s’intègre parfaitement aux systèmes MES et RTD des clients.
Les premiers utilisateurs soulignent des cycles de qualification plus courts et une transition plus fluide de l’installation à la production pilote.
Pourquoi est-ce important ?
Plus de disponibilité = productivité accrue.
Moins de variabilité opérationnelle = meilleurs rendements.
Un package d’assistance complet disponible pour une qualification rapide sur site.
Envie d’une démonstration ou d’un projet pilote ?
Contactez notre équipe commerciale régionale pour planifier une évaluation : qiwu@qwmind.com
